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單晶槽式制絨設備

設備簡介  Equipment Description

設備名稱:單晶槽式制絨設備
Equipment Name: Automatic Mono-CrystallineTexturing Equipment

設備型號:SC-CSZ8000E-15F
Equipment Model: SC-CSZ7400E-15F

設備用途:主要對單晶硅太陽能電池用硅片進行絨面腐蝕和清洗處理。
Equipment Application: Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.

工藝流程:去損傷→預清洗→單晶制絨→后處理→酸洗→預脫水→烘干  
Processing Steps:  Saw damage removal→Pre-cleaning→Mono-texturing→Postcleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)

 

技術特點  Features

· 產能:400PCS/批 8000PCS/H。
  Throughput: 400PCS/batch, 8000PCS/H.

· 工藝槽循環量可調。
  Process Bath circulation volume adjustable.

· 制絨金字塔均勻,刻蝕深度可調。
  Uniform pyramids texture, etch depth adjustable. 

· 支持最薄120μm硅片。
  Wafer thickness down to 120μm.

· 潔凈干燥區域,自潔凈干燥系統。
  With clean dry area and self-clean dry system.

· 可以實現H2O2 free。
  
H2Ofree.

· 快速換液,在線換液。
  Quick inline bath change.

· 支持MES、RFID及選配在線稱重功能。
  
Suitable with MES, RFID and inline weight testing optional.


設備參數 Parameters

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