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鏈式酸拋光清洗設備


設備簡介  Equipment Description

設備名稱:鏈式酸拋光清洗設備
Equipment Name: Inline Acid Polishing Equipment

設備型號:SC-LSP4500/ SC-LSP8000
Equipment Model: SC-LSP4500/ SC-LSP8000

設備用途:對單、多晶硅片進行刻蝕/拋光、清洗、干燥。
Equipment Application: Etching/polishing, cleaning and drying of mono/multi crystalline solar cells.

工藝流程:正面保護→刻蝕/拋光→堿洗→酸洗→烘干
Process Flow: Water layer protection→Etching/Polishing→Alkaline cleaning→Acid Cleaning→Drying.

 

技術特點  Features

· 高產能:4500PCS/5道,8000PCS/10道。
  High Throughput: 4000pcs/h, 5 lanes; 8000pcs/h, 10 lanes.

· 高均勻性,超長藥液壽命。
  Excellent Uniformity, long bath life time.

· 支持多種添加劑或混合添加劑技術。
  Various additives or mixed additives technology.

· 支持最薄120μm硅片。
  Wafer thickness down to 120μm.

· 快速換液,在線換液。
  Quick inline bath change.

· ?持背面拋光工藝,超低藥耗。
  Suitable for rear side polishing and with low chemical consumption.

· ?持MES,選配在線稱重檢測。
  Suitable with MES ; Inline weight testing is optional.

· 兼容酸拋光功能。
  Compatible with acid polish function.


設備參數  Parameters



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